Patentix 株式会社的主要业务是面向新一代功率半导体 r-GeO₂(金红石型二氧化锗)的外延晶圆(衬底)的研发、生产和销售。
通过供应 r-GeO₂ 晶圆,我们致力于大幅提升电力使用效率,推动 GX(绿色转型)的实现。
r-GeO₂的特性
・高压、低损耗
高击穿电场确保在高压环境下仍能稳定运行,显著降低电力转换过程中的能量损耗。这有助于提高系统效率并抑制发热。
・紧凑轻量化
低损耗特性实现器件微型化,直接助力终端产品节省空间与减轻重量。这增强了设计灵活性,并推动新型应用的开发。
・环保型制造工艺
GeO₂的制造工艺与SiC的升华法(需2000℃以上)不同,可在低于1000℃的薄膜沉积温度下生产。该工艺还无需昂贵的真空环境,显著降低能耗,具有环保特性,并有助于降低制造成本。此外,该材料硬度低于SiC,且不具备氧化镓般的解理特性,使器件制造更为简便。这显著提升了器件制造良率并有效降低了生产成本。
・高品质晶体
可制造大块晶体,并通过同质外延生长获得高品质晶体薄膜。
・助力节能社会建设
降低电力转换过程中的能量损耗,有助于减少二氧化碳排放,推动可持续低碳社会的实现。
・开辟全新应用领域
该技术实现了传统半导体难以实现的大功率、高电压功率控制,推动工业、交通等多个领域实现技术创新。
GeO2半导体产品
(開発中)
6英寸 GeO₂/Si基板
(开发中)
付费样品
10mm角
GeO₂ on TiO₂基板
(有偿样品提供中)
GeO₂ on TiO₂基板
(有偿样品提供中)
产品摄影(参考照片)
规格参数
- 特性: 金红石型二氧化锗薄膜通过异质外延生长于TiO₂衬底上,具有与二氧化锗相同的晶体结构。
- 掺杂: 可提供锑(Sb)n型掺杂。
- 基板尺寸: 10mm方形
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