r-GeO₂ 功率半导体
将解决全球能源问题。
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r-GeO₂ 功率半导体
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r-GeO₂基本物理性质表
| 特性 | r-GeO₂ |
|---|---|
| 带隙 (eV) | 4.45~4.77(实测) |
| 击穿电场 (MV/cm) | |
| 电子迁移率 (cm²/Vs) | |
| 空穴迁移率 (cm²/Vs) | |
| 热导率 (W/m K) | |
| 平均热膨胀系数 (/K)(室温 -600℃)((001) 晶面) | 3.9×10⁻⁶(实测)* |
| Baliga 优值(Si=1) | |
| 维氏硬度 (Hv)((110) 晶面) | 1610(实测)* |
| 杨氏模量 (GPa) | 293GPa(实测)* |
r-GeO₂(金红石型二氧化锗)的带隙 (eV) 实测值已于 2025 年 9 月 7 日发表。(4.45–4.77,Patentix)
(文献中的带隙值为 4.85–5.63)
(文献中的带隙值为 4.85–5.63)
*n=1.
留空的物性数值目前正在测量中。一旦获得可公开的数据,我们将及时更新。
r-GeO₂的特性
・高压、低损耗
高击穿电场确保在高压环境下仍能稳定运行,显著降低电力转换过程中的能量损耗。这有助于提高系统效率并抑制发热。
・紧凑轻量化
低损耗特性实现器件微型化,直接助力终端产品节省空间与减轻重量。这增强了设计灵活性,并推动新型应用的开发。
・环保型制造工艺
GeO₂的制造工艺与SiC的升华法(需2000℃以上)不同,可在低于1000℃的薄膜沉积温度下生产。该工艺还无需昂贵的真空环境,显著降低能耗,具有环保特性,并有助于降低制造成本。此外,该材料硬度低于SiC,且不具备氧化镓般的解理特性,使器件制造更为简便。这显著提升了器件制造良率并有效降低了生产成本。
・高品质晶体
可制造大块晶体,并通过同质外延生长获得高品质晶体薄膜。
・助力节能社会建设
降低电力转换过程中的能量损耗,有助于减少二氧化碳排放,推动可持续低碳社会的实现。
・开辟全新应用领域
该技术实现了传统半导体难以实现的大功率、高电压功率控制,推动工业、交通等多个领域实现技术创新。
GeO2半导体产品
(開発中)
6英寸 GeO₂/Si基板
(开发中)
付费样品
产品摄影(参考照片)
规格参数
10mm方形
TiO₂衬底上的GeO₂薄膜
(可提供付费样品)
- 特性: 金红石型二氧化锗薄膜通过异质外延生长于TiO₂衬底上,具有与二氧化锗相同的晶体结构
- 掺杂: 可提供锑(Sb)n型掺杂。
- 基板尺寸:10mm方形
详情请咨询。