技術介紹

r-GeO₂屬於何種半導體?

我們日常生活中不可或缺的電器(如電視、空調、汽車及工業機械)皆透過轉換與控制電力來運作。功率半導體在高效轉換與控制電力方面扮演關鍵角色。

金紅石型二氧化鍺(r-GeO₂)正作為次世代功率半導體材料備受矚目。

相較於傳統材料,r-GeO₂具備成為「理想開關」的潛力,能大幅降低功率損耗並實現更高效的電力轉換。此特性源於其卓越的物理屬性:寬禁帶特性賦予其承受高擊穿電場的能力,且理論預測可同時實現p型與n型摻雜。基於上述特性,二氧化鍺預期將廣泛應用於各領域,並有望大幅提升電力利用效率。隨著製造技術的進步,其量產之路已初具雛形。

r-GeO₂ 基本物理性質表

特性 r-GeO₂
帶隙 (eV) 4.45~4.77(Measured)
擊穿電場 (MV/cm)
電子遷移率 (cm²/Vs))
空穴遷移率 (cm²/Vs)
熱導率 (W/m K)
平均熱膨脹係數 (/K) (Room temp. -600℃)((001) plane) 3.9×10⁻⁶(Measured)*
Baliga’s 優值 (Si=1)
維氏硬度 (Hv) ((110) plane) 1610 (Measured)*
楊氏模量 (GPa) 293GPa(Measured)*
r-GeO₂(金紅石型二氧化鍺)的帶隙(eV)實測值已於 2025 年 9 月 7 日發表。(4.45–4.77,Patentix)
                                    (文獻報導中的帶隙值為 4.85–5.63)

*n=1。

目前留白的物性數值仍在測量中,一旦取得可公開的數據,我們將立即更新。

r-GeO₂的特性

高電壓、低能量損耗

高擊穿電場確保即使在高壓環境下仍能穩定運作,大幅降低電力轉換過程中的能量損耗。此特性有助提升系統效率並抑制發熱。

・輕巧緊湊

低損耗特性使裝置得以微型化,直接為終端產品節省空間與減輕重量。此特性提升設計彈性,並促進新應用領域的發展。

環保製造製程

GeO₂製造工藝有別於SiC的昇華法(需超過2000℃),可在低於1000℃的薄膜沉積溫度下生產。同時免除昂貴真空環境需求,大幅降低能耗,兼具環保效益與製造成本優勢。此外,其硬度低於碳化矽,且不具備氧化鎵般的解理特性,使元件製程更為簡便。此特性顯著提升元件製造良率並降低生產成本。 

・高品質晶體

可製造塊狀晶體,並透過同質外延生長技術實現高品質晶體薄膜。

助力節能社會

降低電力轉換過程中的能量損耗,有助減少二氧化碳排放,推動實現永續低碳社會。

開拓嶄新應用領域

實現傳統半導體難以達成的高功率、高電壓電力控制,驅動工業、交通等多元領域的技術創新。

r-GeO₂半導體的未來挑戰

建立p型導電的驗證與控制技術
・理論上雖可實現p型與n型導電,但p型導電的實驗驗證仍面臨重大挑戰。
・目前雖有n型導電的實證報告,但p型導電仍處於確認其可能性的電氣特性階段。需全面驗證雙極性導電特性,並開發能穩定實現與控制的摻雜技術。

提升擊穿電壓與可靠性
・功率半導體需具備高可靠性,以承受高壓控制時的電氣擊穿現象。
・r-GeO₂ 擁有極大帶隙(4.7 eV),顯示其具備高擊穿電壓潛力。然而,建立抑制擊穿現象並防止實際器件運作中物理損壞的技術,仍是亟待解決的課題。

薄膜沉積技術與高品質晶體生長
・製造半導體元件時,具備高品質薄膜沉積技術與缺陷極少的單晶生長技術至關重要。
・針對新型材料r-GeO₂,必須優化適用於量產且品質穩定的專有薄膜沉積製程,並確保與基板材料的相容性。

裝置結構優化與評估
・確認材料基本特性後,需設計並製備晶體管等裝置結構,並詳細評估其電氣特性。
・建立能最大化其理論潛能的最適化器件結構與製程技術,是實現實用化的關鍵。透過克服這些挑戰,預期r-GeO₂將超越現有寬禁帶半導體(如碳化矽、氮化鎵),成為終極節能元件,應用於輸電系統與電動車等領域。

r-GeO₂基板實務應用之挑戰

・需具備至少6吋的大直徑基板。
為使功率元件製造商能運用r-GeO₂基板生產功率元件,必須供應尺寸符合現有生產設備(6吋或更大)的r-GeO₂基板。

・難以轉向6吋獨立基板(體相基板)。
欲實現6吋r-GeO2獨立基板,需生長直徑達100毫米以上的單晶砧錠。然而,目前生產的單晶直徑僅約5毫米,意味著實現6英寸基板需要漫長的開發週期。此外,由於原料(鍺)價格飆升,即使實現6英寸r-GeO2獨立基板,預計基板價格仍難以降低。

・適用於大面積製程與低成本生產的矽基板上二氧化鍺
若能在廉價的矽基板上異質外延生長單晶r-GeO₂薄膜,將能大幅減少二氧化鍺原料用量。此技術可提供成本低於現行碳化矽基板的次世代半導體r-GeO₂基板。此外,透過採用導電材料作為緩衝層——此為實現r-GeO2單晶薄膜在Si基板上異質外延生長的關鍵——我們致力實現GeO2在Si基板上的應用。此技術將促進垂直器件結構的實現,此類結構在功率器件中屬常見配置。

・適用於超高性能功率器件的半英寸r-GeO2懸浮式基板
目前正致力開發尺寸達半英吋(0.5英吋)的r-GeO2獨立基板。此類基板除適用於大學及研究機構的基礎研究外,其卓越的晶體品質更可應用於傳統材料難以觸及的領域,例如超高壓功率元件及抗輻射功率元件。

預期應用領域

電動車(EV)/鐵道系統
電力轉換效率的提升有助延長電動車續航里程、縮短充電時間,並使逆變器體積更小、重量更輕。此技術亦應用於軌道車輛動力系統。

 

再生能源
應用於太陽能與風力發電的電力調節器,最大化轉換效率並降低傳輸損耗,加速清潔能源普及。

 

工業設備
應用於工廠內的馬達控制與供電設備,實現系統整體節能效益。

 

資料中心
應用於資料中心伺服器電源供應器,實現系統整體節能效益。 

家用電器
內建於空調、冰箱等家電的變頻器中,顯著降低耗電量。支持實現更高性能且環保的家用電器。 

各類電源裝置
從智慧型手機充電器到工業電源供應器,我們透過實現所有電力轉換裝置的高效率與小型化,推動能源使用的優化。