会社紹介

会社概要About  Patentix Inc. 

会社名

Patentix株式会社

（適格請求書発行事業者登録番号：T7130001073240）

会社種別

立命館大学発ベンチャー

事業内容

新規機能性材料の製造販売、各種研究成果の社会実装事業

設立

2022年 12 月 1 日

役員

  • 代表取締役社長　衣斐 豊祐
  • 取締役CTO　　　松田 慎平
  • 取締役副社長　　牧野 容子
  • 取締役　　　　　清水 悠吏
  • 社外取締役　　　山口 冬樹　　　

本社所在地

〒525-8577
滋賀県草津市野路東１丁目１番１号
立命館大学BKCインキュベータ

STF研究所

〒525-0058
滋賀県草津市野路東7丁目3-46
滋賀県立テクノファクトリー3号棟        　　　　　　　　　　　　　9号棟

沿革History of our company

Drag
2025

10月

  • FZ法を用いたr-GeO₂バルク結晶の育成に世界で初めて成功したと発表。
　

　

  • シリーズAで総額約7億1,900万円の資金調達を実施。これにより、創業以来の調達額は計10億5,900万円に達する。
　

7月

  • 日電精密工業との協業により、新製品の有償サンプル出荷を開始。製造拠点を日電精密工業 神戸工場に定め、量産化に向けた第一歩とする。
　

　

  • r-GeO₂半導体におけるイオン注入によるn型導電性の付与に成功したと発表。
　

　

  • Si基板上にルチル型二酸化ゲルマニウム（r-GeO₂）薄膜の作製に成功したと発表。
　

　

  • r-GeO₂半導体のp型導電の可能性を示唆する電気特性を確認したと発表。
　

6月

  • ルチル型二酸化ゲルマニウムのバルク結晶の合成に成功したと発表。
2024

11月

  • 世界初のルチル型GeO₂結晶によるショットキーバリアダイオード動作を確認したと発表。
　

9月

  • 世界初のルチル型二酸化ゲルマニウム薄膜にてN型導電性を確認したと発表。
　

8月

  • 二酸化ゲルマニウム（GeO₂）の有償サンプル出荷に向け、クオルテックが出荷検査を行うことに基本合意を締結。
　

7月

  • FASTAR 9th Demo Day オーディエンス賞、M.I.C.賞　受賞
　

6月

  • 令和6年度Go-Tech事業（旧サポイン）採択
　

　

  • 京都リサーチパーク入居
　

4月

  • 経済産業省の技術情報管理認証制度（TICS）の認証取得
　

　

  • 【シード】資金調達実施（シードラウンド調達額 累計3.4億円）
　

3月

  • 第11回 京信・地域の起業家アワード優秀賞受賞携
2023

12月

  • 「経済界 Golden Pitch 2023」で審査員特別賞を受賞
　

　

  • 滋賀県立テクノファクトリー入居
　

　

  • 【シード】クオルテック社及び日電精密工業社と資本業務提携
　

9月

  • U-START UP KANSAI オープンピッチ」NEDO賞受賞
　

6月

  • 【シード】立命館ソーシャルインパクトファンドからJ-KISS資金調達
2022

12 月

  • 会社設立