日: 2026年1月13日

Patentix to Make Its Debut at the 40th NEPCON JAPAN~ Aiming for the Practical Application and Popularization of Rutile-Structured Germanium Dioxide (r-GeO₂) as a Next-Generation Power Semiconductor Material ~

Patentix Inc.is pleased to announce its f…

Patentix,第40回ネプコン展に初出展～次世代パワー半導体素材、ルチル型二酸化ゲルマニウム「r-GeO₂」の実用化・普及を目指す～

Patentix株式会社は、2026年1月21日（水）～23日（金）までの３日間、…