投稿者: patentix_admin

【Exhibition Announcement】nano tech 2026

We are pleased to announce that we will b…

【出展のお知らせ】nano tech 2026

当社は、2026年１月28日（水）～30日（金）に東京ビックサイトで開催される「n…

Patentix to Make Its Debut at the 40th NEPCON JAPAN~ Aiming for the Practical Application and Popularization of Rutile-Structured Germanium Dioxide (r-GeO₂) as a Next-Generation Power Semiconductor Material ~

Patentix Inc.is pleased to announce its f…

Patentix,第40回ネプコン展に初出展～次世代パワー半導体素材、ルチル型二酸化ゲルマニウム「r-GeO₂」の実用化・普及を目指す～

Patentix株式会社は、2026年1月21日（水）～23日（金）までの３日間、…

【Exhibition Info:】SEMICON Japan 2025

We are pleased to announce that we will b…

【出展のお知らせ】SEMICON Japan 2025

当社は、2025年12月17日(水)より東京ビッグサイトにて開催される「SEMIC…

奥野製薬工業、「びわこ半導体構想」に参画～Patentix株式会社と共同で、次世代パワー半導体「GeO₂」の実用化・普及を目指す～

奥野製薬工業株式会社（本社：大阪府大阪市、代表取締役社長：奥野直希、以下「奥野製…

World’s First Growth of Rutile-type GeO₂ Bulk Crystal by FZ method

Patentix Inc. has achieved the world&#821…

FZ法を用いたr-GeO₂バルク結晶の育成に世界で初めて成功

Patentix株式会社は、浮遊帯域溶融法(Floating Zone Metho…

【お知らせ】NBCI Start-up Award「ピッチコンテスト・個別商談会」登壇について

当社は、2025年10月27日（月）にTKPガーデンシティ御茶ノ水にて開催される、…