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来る8月22日（金）、京都経済センターにて、台湾政府のスタートアップ支援プロジェクト「Startup Island TAIWAN」と一般社団法人京都知恵産業創造の森が連携した交流イベントが開催されます。 本イベントでは、急成長を遂げる台湾のスタートアップエコシステムについての解説や、台湾と京都、両国の有望なスタートアップによるプレゼンテーションが実施されます。当日は、当社も登壇し、事業内容についてプレゼンテーションを行う予定です。 台湾市場への展開や海外スタートアップとの協業に関心のある皆様にとって、またとない機会となります。皆様のご参加を心よりお待ちしております。 開催概要 日時: 2025年8月22日（金） 14:00〜 場所: 京都経済センター（アクセス：京都市営地下鉄烏丸線「四条駅」、阪急京都線「烏丸駅」直結） 内容: 台湾スタートアップエコシステムの紹介 台湾スタートアップによるプレゼンテーション 京都スタートアップによるプレゼンテーション （当社も登壇いたします） ネットワーキング 詳細・お申し込み: イベント詳細および参加お申し込みは、以下のリンクよりご確認ください。 https://open.kyoto/calendar/16167/

平素は格別のお引立てを賜り、厚く御礼申し上げます。 誠に勝手ながら、以下の期間を夏季休業とさせていただきます。 期間中は何かとご迷惑をおかけしますが、何卒ご了承の程宜しくお願い申し上げます。   【夏季休業】　2025年8月8日（金）～2025年8月17日（日）   なお、2025年８月18日（月）より通常通り営業いたします。 ご迷惑をお掛けいたしますが、何卒ご理解賜りますようよろしくお願い申し上げます。

革新的な技術開発を手掛けるPatentix（本社：滋賀県草津市、代表取締役社長：衣斐豊佑）と、精密加工技術で業界をリードする日電精密工業株式会社（本社：岐阜県大垣市、代表取締役社長：吉田圭二）は、本日、Patentixの新製品に関する有償サンプルの製造を日電精密工業の神戸工場（岐阜県安八郡神戸町）で行い、出荷を開始することを発表します。 本提携は、将来の量産化を見据えた重要な第一歩であり、Patentixは国内における高品質な製造基盤を確保することで、今後の事業拡大を加速させます。

TECHNO-FRONTIER2025出展のご案内   当社は 「TECHNO-FRONTIER2025」 に出展しております。 弊社の最新情報を直接ご覧いただける貴重な機会です。 ぜひお立ち寄りください！ ⸻展示会名：TECHNO-FRONTIER2025 開催日時：7月23日（水）•24日（木） •25日（金） 10時～17時 会　　場：東京ビックサイト会場（アクセス：国際展示場駅からは徒歩約7分、東京ビッグサイト駅からは徒歩約3分） パワーエレクトロニクス技術展　西4ホール、ブース番号：4ｰAA34 ⸻ご来場の際は、事前にご連絡いただけますと、よりスムーズにご案内が可能です。 皆さまとお会いできることを、心より楽しみにしております！何卒よろしくお願い申し上げます。

Patentix 株式会社は、次世代パワー半導体材料として注目されるルチル 型二酸化ゲルマニウム以r-GeO2 に、イオン注入プロセスによって絶縁性のr-GeO2結晶膜 に n 型の導電性を付与すること成功しました。イオン注入プロセスはドーピングの濃度・ 位置・深さ精度が高く、パワーMOSFETなどの複雑なパワーデバイスの作製が容易になる と期待されます。

Patentix 株式会社は、新世代のパワー半導体材料として注目されている ルチル型二酸化ゲルマニウム（r-GeO2）薄膜を Si 基板上に作製することに成功しました。 これは次世代パワー半導体r-GeO2基板の低コスト化を実現するための基礎となる重要な成 果です。

Patentix 株式会社では、次世代パワー半導体材料のルチル型二酸化ゲルマニウム（r-GeO2）の成膜時にアクセプタ不純物のドーピングを行うことで、正孔が優勢な電気伝導が生じていることを示唆する結果が得られました。現時点ではp型伝導の完全な立証には至っていないものの、重要な技術的進展が確認されたことから、今後は電気特性評価を中心に複数の手法で極性評価を実施することで、r-GeO2でのp型伝導を立証することを目指します。

Patentix株式会社は、新世代のパワー半導体材料として注目されている、ルチル型二酸化ゲルマニウム（r-GeO2）バルク結晶の合成に成功しました。大口径で高品質なr-GeO2のバルク基板の実現に向けた重要な一歩です。

このたび当社は、2025年7月3日（木）・4日（金）にパナソニックリゾート大阪で開催される「実装フェスタ関西2025」にて、ポスター発表を行います。本発表では、当社が注力する次世代半導体技術を中心に、開発中の**高性能材料「二酸化ゲルマニウム」**の応用可能性や、実装技術への展開についてご紹介いたします。電力効率・高耐圧性能の両立を可能にする当技術は、電動車やデータセンターなど、GX（グリーントランスフォーメーション）社会の中核を担う分野での実用化が期待されています。実装・実現に向けた連携や共同開発にご関心のある皆さま、ぜひ当社ポスターブースへお立ち寄りください。 ■ イベント概要 名称：実装フェスタ関西2025 会期：2025年7月3日（木）・4日（金） 発表：2025年7月4日（金） 午後14:30 – 16:00 タイトル：新しいパワー半導体材料　ルチル構造二酸化ゲルマニウム 会場：パナソニックリゾート大阪(大阪府吹田市青葉丘南１０­１) https://jiep.or.jp/event/workshop/jfk2025/  

2025年7月31日（木）に京都リサーチパークで開催される 「技術イノベーションフォーラム in KRPフェス2025」にて、当社はポスター発表を行います。 本年度のテーマは「GXでつながる未来技術の創発・革新」。 当社が取り組む最新技術――二酸化ゲルマニウムを用いた次世代半導体――を通じて、GX（グリーントランスフォーメーション）社会の実現に向けた新たな可能性をご紹介します。 高耐圧・高効率なパワーデバイスの実現に貢献する本技術は、持続可能な社会の構築に向けた鍵を握ると考えています。 最先端技術にご関心をお持ちの企業・研究機関の皆さま、ぜひお立ち寄りください。 皆さまのご来場を、心よりお待ちしております。 ⸻■ 技術イノベーションフォーラム in KRPフェス2025 ・開催日：2025年7月31日（木） ・会　場：京都リサーチパーク ・参加費：無料 https://www.krp.co.jp/krpfes/detail/4942.html