株式会社アイシン、琵琶湖半導体構想（案）に参画 立命館大学発ベンチャ…
半導体の可能性をさらに拡げる Ga₂O₃ on Diamondに成功 ～PhantomSVDにて酸化ガリウムをダイヤモンド半導体上に製膜～
P&Q_酸化ガリウムダイヤモンド半導体特許プレスリリース20240214P…
【世界初】新しいパワー半導体材料ルチル型GeO2系混晶半導体デバイスの開発に成功 ―r-GeO2パワーデバイスの実現に大きく前進―
【世界初】新しいパワー半導体材料ルチル型GeO2系混晶半導体デバイスの開発に成功 …
Patentix株式会社×株式会社クオルテック資本業務提携を締結、調印式を実施 「立命館大学発のGeO2半導体を社会実装する」
Patentix株式会社（本社：滋賀県草津市、代表取締役社長：衣斐豊祐、以下「PA…
【当社PR動画の公開】「第３回Challennge万博『いのち輝く未来社会』へ」にて金子健太郎教授(RARAフェロー/当社取締役CTO)が登壇されました。
2023年11月21日及び22日、立命館大学総合科学技術研究機構の金子健太郎教授/…
【世界初】Phantom SVD(ファントム局所的気相成長)法で4インチウエハ上への二酸化ゲルマニウム(GeO2)製膜に成功
― 薄膜の大面積化実現に大きく前進― 立命館大学総合科学技術研究機構の金子健太郎 …