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【世界初】PhantomSVD(ファントム局所的気相成長)法でＳｉＣへのルチル構造二酸化ゲルマニウム(ｒ-GeO2)製膜に成功

　　　【世界初】Phantom SVD(ファントム局所的気相成長)法でSiCへの…

プレスリリース（資金調達実施のお知らせ）

立命館大学発ディープテックベンチャーのPatentix株式会社がシードラウンドで5…

ホームページを公開しました。

中小機構によるアクセラレーション事業「FASTAR」に採択されました。

FASTARとはグローバル規模での社会課題解決や、成長産業の変革を目指している企…

金子CTOが、ガリウムおよびゲルマニウムの輸出規制の現状と今後の半導体業界への影響について、SBI証券主宰の機関投資家向けセミナーで講演を行いました。

金子CTOが、三井住友銀行主催の第4回関西私立大学産官学金連携推進連絡会において、「大学の研究者とスタートアップ」について招待講演を行いました。

日経エレクトロニクス2月号及び3月号に、GeO₂パワー半導体と金子CTOのインタビューが掲載されました。